開催場所:オンライン会議
第1日目: 3月2日(火)
- 13:00 ~ 13:30参加受付
- 13:30 ~ 13:35開会挨拶
伊藤 - 13:35 ~ 13:40オンライン講演会における注意事項
牧野 -
依頼講演
- 13:40 ~ 14:20材料データプラットフォームとしての計測データの収集・判読化・付加価値化・共用の処理の自動化
吉川英樹(物質・材料研究機構) - 14:20 ~ 15:00最新のレーザー技術を用いた「第2世代」レーザーSNMSの開発と展望
坂本哲夫(工学院大学) - 15:00 ~ 15:20休憩
- 13:40 ~ 14:20材料データプラットフォームとしての計測データの収集・判読化・付加価値化・共用の処理の自動化
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テーマ講演-FIB-SIMS-1
- 15:20 ~ 16:00FIB-SEMに搭載したTOF-SIMS測定と応用
村田薫(日本エフイー・アイ株式会社)
- 15:20 ~ 16:00FIB-SEMに搭載したTOF-SIMS測定と応用
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テーマ講演-標準化-1
- 16:00 ~ 16:40標準物質と表面分析(仮)
黒河明(産業技術総合研究所)
- 16:00 ~ 16:40標準物質と表面分析(仮)
- 16:40 ~ 17:30休憩
- 17:30 ~ 19:30懇親会
第2日目: 3月3日(水)
- 9:30 ~ 10:00参加受付
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テーマ講演-標準化-2
- 10:00 ~ 10:40ISO/TR-22335:2007 スパッタ速度の測定法ーメッシュレプリカ法 について(仮)
奥村洋史 (三菱マテリアル株式会社) - 10:40 ~ 11:20ISO14701:2018 X線光電子分光法によるシリコン酸化膜の測定方法について(仮)
○山内 康生、大泉 翔也、大西 里佳(矢崎総業(株)) - 11:20 ~ 12:00相互校正法による酸化物薄膜の膜厚測定
牧野久雄(高知工科大学)
- 10:00 ~ 10:40ISO/TR-22335:2007 スパッタ速度の測定法ーメッシュレプリカ法 について(仮)
- 12:00 ~ 13:30- 昼食 -(研究会では準備いたしませんので各自でお取りください)
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テーマ講演-標準化-3
- 13:30 ~ 14:10Thickness measurement of ultra-thin HfO2 films by mutual calibration
Kyung Joong Kim (Korea Research Institute of Standards and Science) - 14:10 ~ 14:50SIMSの国際標準化と二元有機物の定量法
〇高野明雄(トヤマ)、黒河明(産総研)、青柳里果(成蹊大) - 14:50 ~ 15:05休憩
- 13:30 ~ 14:10Thickness measurement of ultra-thin HfO2 films by mutual calibration
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テーマ講演-FIB-SIMS-2
- 15:05 ~ 15:45FIB-SEMに搭載したTOF-SIMSの測定事例と今後の応用
鈴木直久 (株式会社東陽テクニカ) - 15:45 ~ 16:15FIB-TOFによる有機・無機ハイブリッド材料の断面観察(仮)
飯田真一(アルバック・ファイ株式会社)
- 15:05 ~ 15:45FIB-SEMに搭載したTOF-SIMSの測定事例と今後の応用
- 16:15 ~ 16:20連絡事項
伊藤 - 16:20 ~ 16:25閉会挨拶
永富