第52回研究会 プログラム（2019.2.21-22）

開催日時：2019年2月21日(木) 13:00 ～ 22日(金) 15:45
開催場所：大阪大学中ノ島センター

第1日目： 2月21日(木)

  • 13:00 ～ 13:30参加受付
  • 13:30 ～ 13:35開会挨拶
    伊藤
  • 日韓交流事業
    • 13:35 ～ 14:20Investigation of hydrogen embrittlement behavior in Fe-Mn-C steel by TDS and SIMS
      Jae Nam Kim (POSTECH)
    • 14:20 ～ 15:05Determination of measuring cantilever’s optical dimension of the cantilever-type Near-field Scanning Optical Microscope ? Related Technology and Standardization Strategy更新
      Doo Jae Park (Hallym University)
    • 15:05 ～ 15:20休憩
  • テーマ講演-有機材料、フィルムの分析-1
    • 15:20 ～ 16:00「高分子材料の表面現象解明におけるTOF-SIMSの役割」
      前野 直人（日東分析センター）
    • 16:00 ～ 16:40「バイオデバイスに用いる高分子膜の表面分析」
      高井 まどか（東京大学）
  • 16:40 ～ 17:20- 移動 -
  • 17:30 ～ 19:30懇親会

第2日目： 2月22日(金)

  • 9:30 ～ 10:00参加受付（必要に応じて）
  • テーマ講演-有機材料、フィルムの分析-2
    • 10:00 ～ 10:40「中性子反射率法による塗布型有機EL素子構造の可視化」
      大久 哲（山形大学）
  • チュートリアル
    • 10:40 ～ 11:40「COMPRO12の使用法（5）」
      吉原 一紘（シエンタオミクロン（株））
  • 11:40 ～ 13:10- 昼食 -（研究会では準備いたしませんので各自でお取りください）
  • テーマ講演-有機材料、フィルムの分析-3
    • 13:10 ～ 13:50「化学修飾/ESCA，TOF-SIMSによる表面解析」
      岡本 昌幸（花王株式会社）
    • 13:50 ～ 14:30「有機物質のXPS測定時における試料損傷」更新
      大和 弘之（栃木県産業技術センター）
    • 14:30 ～ 14:45休憩
  • 一般講演
    • 14:45 ～ 15:15「LASSOによるTOFSIMSスペクトル解釈の基礎検討」
      秋山 智美1, 志賀 元紀2, 青柳 里果1（1成蹊大学理工学部, 2岐阜大学工学部）
    • 15:15 ～ 15:45「電子分光バックグラウンドの最適化法の概要紹介」
      城 昌利（国立研究開発法人産業技術総合研究所　物質計測標準研究部門　表面・ナノ分析研究グループ）
  • 15:45 ～ 15:50連絡事項
    伊藤
  • 15:50 ～ 15:55閉会挨拶
    永富

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