第47回研究会 プログラム（2016.6.23-24）

開催日時：2016年6月23日(木) 13:00 ～ 24日(金) 16:30
開催場所：島津製作所東京支社 イベントホール

第1日目： 6月23日(木)

  • 12:30 ～ 13:00参加受付
  • 13:00 ～ 13:05開会挨拶／伊藤博人
  • 日韓交流事業
    • 13:05 ～ 13:35Applications of Reflection Electron Energy Loss Spectroscopy to Oxide Thin Film Devices
      Hee Jae Kang (Chungbuk Univ.)
    • 13:35 ～ 14:05Adhesion of Polymeric Film on Aluminum Surface Modified by Anodic Oxidation
      Jong Seong Bae (KBSI)
  • 休憩及びディスカッション
  • テーマ講演１　「表面・界面の制御の現状」
    • 14:15 ～ 14:20企画意図説明
      堤建一(日本電子株式会社)
    • 14:20 ～ 14:50「絶縁樹脂材料への新しい表面改質法～ファインバブル低濃度オゾン水処理」
      田代雄彦（関東学院大学）
    • 14:50 ～ 15:20「アノード酸化を利用したナノ材料の構造制御」
      小野幸子（工学院大学）
    • 15:20 ～ 15:50「XPSを用いたいぶし瓦の炭素膜／素地界面分析」
      福岡修（あいち産業科学技術総合センター）
  • 休憩及びディスカッション
  • 新体制紹介、方針説明
    • 16:00 ～ 16:10表面分析研究会　全体
      永富隆清（旭化成株式会社）
    • 16:10 ～ 16:20講演委員会
      伊藤博人（コニカミノルタ株式会社）
    • 16:20 ～ 16:30編集委員会
      眞田 則明(アルバック・ファイ株式会社）
  • 16:30 ～ 17:30講演委員会からのイベント
    伊藤博人（コニカミノルタ株式会社）
  • 17:30 ～ 18:00移動
  • 18:00 ～ 20:00懇親会

第2日目： 6月24日(金)

  • 9:00 ～ 9:30参加受付
  • WG活動紹介
    • 9:30 ～ 9:45Depth WG
      山内康生（矢崎総業株式会社）
    • 9:45 ～ 10:00TOF-SIMS WG
      伊藤博人（コニカミノルタ株式会社）
    • 10:00 ～ 10:20XPS（定量/データベース/試料損傷)　WG
      高野みどり（Panasonic株式会社）
  • WG討議
    • 10:20 ～ 12:00Depth, TOF-SIMS, XPS定量, XPSデータベース
  • 12:00 ～ 13:30昼食
  • テーマ講演２　「表面・界面の制御の現状」
    • 13:30 ～ 14:00「酸化物被覆したリチウムイオン電池用正極活物質の表面微細構造の解析」
      矢野亮(日立マクセル株式会社)
    • 14:00 ～ 14:30「微小角入射X線回折法による窒化物半導体表面の構造解析」
      更新

      ○本谷宗, 倉橋健一郎, 上原康 (三菱電機株式会社)
  • 一般講演 (依頼講演)
    • 14:30 ～ 15:00「3次元アトムプローブ（３DAP）による粒界分析事例の紹介」
      石村聡(東芝ナノアナリシス株式会社)
  • 一般講演 (通常講演)
    • 15:00 ～ 15:30「COMPROに加えるAES・SEのデーターベース；フラーレン、グラフェン（ｓ）、 Se, Bi2Se3, SrTiO3,GaN,W(111)」
      更新

      ○後藤敬典1、KALITA Golap2、種村眞幸2、本田光裕2、市川洋2、境悠治3、永井滋一4、兼松　渉1, (1)産総研・中部センター, (2)名工大, (3)山梨大, (4)三重大
  • 休憩及びディスカッション
  • WG討議報告
    • 15:40 ～ 16:20Depth, TOF-SIMS, XPS定量, XPSデータベース
  • 16:20 ～ 16:25連絡事項
  • 16:25 ～ 16:30閉会挨拶

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