第39回表面分析研究会プログラム（2012.6.4）
開催日時： 2012年 6月25日（月） 13:30 ～ 26日（火） 16:00 開催場所： 古河電気工業株式会社 横浜研究所（相鉄平沼橋）
第１日目： 6 月 25 日（月）
13:00 ～ 13:30 参加受付 13:30 ～ 13:40 開会挨拶 高橋和裕（(株)島津製作所） 一般講演 13:40 ～ 14:10 「データ解析ソフトウェアCOMPROの新機能」
―角度分解XPSを使った半導体バンド曲りの定量評価―○吉川英樹、吉原一紘、田沼繁夫（(独)物質・材料研究機構） 14:10 ～ 14:40 「硬X線光電子分光法を利用した合金材料および化合物半導体関連材料の評価」 大友晋哉（古河電気工業(株)） 14:40 ～ 15:10 「F.Cupと試料電流による２次電子利得の推測と２次電子の特性；エネルギー分布，オージェ遷移，損失」 ○後藤敬典（(独)産業技術総合研究所）、井上雅彦（摂南大学）、田沼繁夫（(独)物質・材料研究機構）、山内幸彦（(独)産業技術総合研究所） 15:10 ～ 15:40 「Ｘ線励起と電子線励起のCr Augerスペクトルの比較」 福島整（(独)物質・材料研究機構） 15:40 ～ 16:00 - 休憩 - ワーキンググループ 16:00 ～ 17:20 ワーキンググループ討議 XPS, Depth, TOF 懇親会 18:00 ～ 20:00 懇親会
第２日目： 6 月 26 日（火）
9:00 ～ 9:30 参加受付 一般講演 9:30 ～ 10:00 「深さ方向分析における深さ分解能、 界面幅及び界面位置に関するアンケート調査結果について」 永富隆清（大阪大学） 10:00 ～ 10:30 「集束イオンビーム－飛行時間型－二次イオン質量分析装置（FIB-TOF-SIMS）のご紹介」 石川丈晴（(株)トヤマ） 10:30 ～ 11:00 「光励起脱離分析装置の開発と表面分析」 宮林延良（電子科学(株)） 11:00 ～ 11:30 「G-SIMSとg-ogramによるペプチド試料評価へのArクラスターイオンの有効性の検討」 ○青柳里果（島根大学）、Rasmus Havelund (NPL), Ian Gilmore (NPL) 11:30 ～ 13:30 - 昼食 - ワーキンググループ 13:30 ～ 15:20 ワーキンググループ討議及び報告 連絡・挨拶、閉会挨拶 15:20 ～ 15:30 連絡事項 講演委員会,
PSA実行委員会閉会挨拶 柳内克昭（TDK(株)）
敬称略 以上
変更がありましたら、そのつどご案内いたします。
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