第37回表面分析研究会プログラム（2011.6.7 現在）

開催日時：	2011年 6月 20日（月） 13:30 ～ 21日（火） 15:00（予定）
開催場所：	島津製作所　関西支社　マルチホール

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第１日目： 6 月 20 日（月）

13:00 ～ 13:30	受付
13:30 ～ 13:40	開会挨拶	吉川英樹（(独)物質・材料研究機構）
一般講演
13:40 ～ 14:10	「ToF-SIMS国際標準化について」	本間芳和（東京理科大学）
14:10 ～ 14:40	「走査型XPSによる低損傷測定条件の検討」	井上りさよ（アルバック・ファイ(株)）
ワーキンググループ
14:40 ～ 17:00	ワーキンググループ討議（詳細はこちら）

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第２日目： 6 月 21 日（火）

09:15 ～ 09:30	受付
一般講演
9:30 ～ 9:45	「国際計量研究連絡委員会・物質量標準分科会の 報告」	田沼繁夫（(独)物質・材料研究機構）
9:45 ～ 10:15	「軟X線放射光光電子分光法を用いたSiO2中の光電子の見かけの有効減衰長測定とその問題点」	神農宗徹 （(独)日本原子力研究開発機構）
10:15 ～ 10:30	休憩
10:30 ～ 11:10	「10 eV - 300 eVにおける弾性散乱電子強度における 実測値とモンテカルロ法による計算値の比較」	田沼繁夫, *後藤敬典, *山内幸彦, 上田隆一, 篠塚寛志, 吉川英樹 （(独)物質・材料研究機構, *産総研）
11:10 ～ 11:40	「帯電水滴エッチングによるTiO2の深さ方向分析」	境悠治 (山梨大学)
11:40 ～ 13:20	昼食
ワーキンググループ
13:20 ～ 14:50	ワーキンググループ討議及び報告
連絡・挨拶、閉会挨拶
14:50 ～ 14:55	連絡・挨拶
14:55 ～ 15:00	閉会挨拶	柳内克昭（ＴＤＫ(株)）

敬称略

以上

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。

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