第36回表面分析研究会 開催案内


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質問
ソフトウエア勉強会
ワーキンググループ



2010年10月 吉日
表面分析研究会長        柳内克昭
表面分析研究会講演委員長  吉川英樹

前略、日頃より表面分析研究会の活動に御協力頂き誠にありがとうございます。
さて、第36回表面分析研究会を下記の要領で開催する予定としておりますので、ご案内申し上げます。 今回は、新しい試みとしてDepth profiling, ToF-SIMS, XPSのワーキンググループ(WG)の活動を重点化した研究会を企画しております。 ワーキンググループの最新の活動を紹介すると共に、各WGのそれぞれの分野において、講演者と参加者の間の双方向の情報交換を進めて参りたいと考えております。 今までの研究会では、十分に質問や議論できなかったことを今回はより自由に質問し議論ができる雰囲気作りを心がけてまいります。 一般講演や話題提供では、WGの分野の枠を越えて、表面分析の現場の最近のトピックスを学びたいと考えておりますので、皆様の積極的なご参加をお待ちしております。

主 催:一般社団法人 表面分析研究会

日 時:2011年2月3日(木)13時 〜 2月4日(金)16時(予定)

場 所:大阪大学中之島センター
住所:〒530-0005 大阪市北区中之島4-3-53
TEL :06-6444-2100 FAX: 06-6444-2338
アクセスは下記webをご参照下さい。
http://www.onc.osaka-u.ac.jp/index.php

締切
一般講演申込期限:2010年12月中旬締め切りました。
講演資料提出期限:2011年1月中旬締め切りました。
参加登録申込期限:2011年1月26日締め切りました。
参加費:(講演資料集を含む)
事前支払い(当日支払い)
会 員:6,000円(7,000円)
非会員:9,000円(10,000円)
学 生:3,000円(3,000円)
懇親会:討議の場として積極的に御活用ください。
場所:大阪大学中之島センター内9F交流サロン
時間:17:30〜19:30
会費:4,000円

<お願い> 参加申し込み締め切り後のキャンセルに関しましては、誠に勝手ながら参加費および懇親会費の
払い戻しは致しません。御都合が悪くなった場合には、代理の方の参加をお願い致します。
参加申し込み方法締め切りました。
参加申し込みは、1 月 26 日 に締め切りました。
宿泊
研究会による宿泊の手配はいたしません。各自で手配されますようお願い致します。
一般講演(話題提供)応募要領締め切りました。
一般講演ご希望の方は、「第36回表面分析研究会講演申込」を明記の上、次の項目を記入して下記の申し込み先までe-mailまたはFAXでお申し込み下さい。

* 氏名(ふりがな,ローマ字)
* 勤務先・所属(住所/TEL/FAX)
* e-mail アドレス
* 講演題目
講演資料作成要領締め切りました。
用紙はA4サイズ。枚数、書式等の指定はなし。図表の掲載も自由。
(JSA誌投稿規定に記載の執筆要項に準ずることを推奨します。JSA誌投稿規定についてはこちらをご参照下さい。(English))

講演資料は、Microsoft WORD の WORD97-2003 形式(.doc 形式に限る:WORD2007 以降の .docx 形式は不可)または PDF(PDF1.7, Acrobat 8.0 互換形式もしくはそれ以前の形式に限る:Acrobat 9 以降は不可)の電子ファイルで作成し、 講演資料提出期限までに、 e-mail (2MB以上の添付ファイルは受信不可能)または CD-R 等で下記担当講演委員へお送りください。
提出された原稿をそのまま印刷しますので、できるだけ鮮明なものを作成してください。
配布資料は白黒印刷ですので、カラーの図表を用いる場合はご注意ください。
SASJ の活動記録として残すために、ご提出いただいた講演資料は SASJ 機関紙である JSA 誌の後付記事として後日出版いたしますので、予めご了承ください。
話題提供申し込み、講演資料送付および問い合わせ先

(株)島津製作所 分析計測事業部 Kratos XPS課 高橋和裕(担当講演委員)
〒259-1304 神奈川県秦野市堀山下380-1
E-mail:bobkt(a)shimadzu.co.jp
FAX:0463-88-8507 TEL:0463-88-8502

パナソニック エレクトロニックデバイス(株) 高野みどり(担当講演委員)
E-mail:takano.midori(a)jp.panasonic.com
TEL:06-6906-3184

E-mail アドレスは、(a) を @ に置き換えてくださいますようお願いいたします。
以上