◆大阪地区 実用表面分析セミナー '10
− ISO 規格を基礎とした表面分析の実際 −
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日時： 7月23日（金）10:00−17:00 場所： 大阪大学中ノ島センター 2階 講義室1 〒530-0005 大阪市北区中之島4-3-53 TEL: 06-6444-2100 http://www.onc.osaka-u.ac.jp/ 1. 10:00-10:50
AES, XPS分析における空間分解能と分析領域の決定法（ISO/TR19319）
井上 雅彦（摂南大学）
2. 10:50-11:40
XPSとAESの強度軸の繰り返し性と恒常性の評価法（ISO21270，24236，24237）
−正しい計測のために−
荒井 正浩（住友金属工業株式会社）
（昼食：11:40-13:00 各自でお取りください）
3. 13:00-13:50
XPSとAESの強度軸の直線性の評価法（ISO21270）
−正しい計測のために−
吉原 一紘（オミクロンナノテクノロジージャパン株式会社）
4. 13:50-14:40
オージェ電子分光法装置におけるエネルギー軸校正法（ISO17973，17974）
−元素分析と状態分析のために−
永富 隆清（大阪大学）
（休憩：14:40-15:0）
5. 15:00-15:50
AES, XPS分析における感度係数法による定量（ISO18118）
−定量性を高めるために−
田沼 繁夫（独立行政法人 物質・材料研究機構）
6. 15:50-16:40
ISO規格における代表的な表面分析用語解説（ISO18115）
後藤 敬典（独立行政法人 産業技術総合研究所）
7. 16:40-17:00
総合討論
◆東京地区
日時： 7月28日（水）10:00−17:00 場所： 物質・材料研究機構 目黒地区 材料データベース棟（51棟） 302会議室 〒153-0061 東京都目黒区中目黒2-2-54 TEL: 03-3719-2727（代表） （クリープ棟（50号棟）ではなく，材料データベース棟（51号棟）です．ご注意ください） http://www.nims.go.jp/nims/office/tokyo_meguro.html 1. 10:00-10:50
AES, XPSの装置性能パラメータの記述法（ISO15470，15471）
−装置比較のために−
鈴木 峰晴（アルバック・ファイ株式会社）
2. 10:50-11:40
分析試料の前処理・取付け方法と帯電補償・補正に関する記述方法（ISO 18116，19318）
當麻 肇（株式会社 日産アーク）
（昼食：11:40-13:00 各自でお取りください）
3. 13:00-13:50
XPSのバックグラウンド処理法（ISO/TR18392）
福島 整（独立行政法人 物質・材料研究機構）
4. 13:50-14:40
XPSとAESの強度軸の直線性の評価法（ISO21270）
−正しい計測のために−
吉原 一紘（オミクロンナノテクノロジージャパン株式会社）
（休憩：14:40-15:0）
5. 15:00-15:50
XPSのエネルギー軸の校正法（ISO15472）
−状態分析のために−
橋本 哲（JFEテクノリサーチ株式会社）
6. 15:50-16:40
AES, XPS分析における感度係数法による定量（ISO18118）
−定量性を高めるために−
田沼 繁夫（独立行政法人 物質・材料研究機構）
7. 16:40-17:00
総合討論