第45回研究会プログラム （2015.6.2 版）

開催日時：2015年 7月 6日（月） 13:00 ～ 7日（火） 15:00
開催場所：

第１日目： 7 月 6 日（月）　13:00 - 17:00


12:30 ～ 13:00参加受付
13:00 ～ 13:05開会挨拶伊藤博人（コニカミノルタ(株））
テーマ講演-SPM-
13:05 ～ 13:15企画意図説明飯田 真一（アルバックファイ（株））
13:15 ～ 13:45「HR-SPM(高分解能SPM)による最新の顕微評価技術」粉川 良平（株式会社　島津製作所）
13:45 ～ 14:15「AFM-IR：数十 nm領域の赤外分光技術開発と応用」粟谷 正（株式会社日産アーク）
14:15 ～ 14:45「1 nm高分解能走査型拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)を用いたSiデバイスにおける２次元キャリア分布計測」張 利（株式会社東芝）
14:45 ～ 15:00- 休憩及びディスカッション -
15:00 ～ 15:30「表面分析の毛髪改質研究への応用（仮）」石川 和高（花王株式会社）
15:30 ～ 16:00「電気計測SPMを用いた半導体微小領域のキャリア濃度測定における校正法と標準化」藤田 高弥（株式会社日産アーク）
16:00 ～ 16:10連絡など
16:10 ～ 17:00チェックイン
17:00 ～ 19:00懇親会
19:00 ～ 20:00休憩（お風呂など）
20:00 ～ 00:00ナイトセッション

第２日目： 7 月 7 日（火）　9:00 - 15:00


9:00 ～ 9:30参加受付　（必要に応じて）
チュートリアル
9:30 ～ 10:25「固体表面からの二次電子生成について」永富 隆清（旭化成(株)）
若手から
10:25 ～ 10:45「第一回SASJ若手研究会　報告」山内 康生（矢崎総業株式会社）
10:45 ～ 11:00- 休憩 -
一般講演
11:00 ～ 11:30「感度が低くしかも幅が広いピークのエネルギー値と精度」田中 彰博（＠ESCA）
11:30 ～ 12:00「ＸＰＳ測定時におけるハロゲン－炭素結合の分解特性」鈴木 昇（宇都宮大学）
12:00 ～ 13:30- 昼食 -
Working Group 活動
13:30 ～ 14:50WG報告
　
14:50 ～ 14:55連絡事項伊藤博人（コニカミノルタ(株））
14:55 ～ 15:00閉会挨拶永富隆清（旭化成(株)）
敬称略
以上

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。

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