第43回表面分析研究会プログラム （2014.5.23）

開催日時：2014年 6月12日（木） 13:00 ～ 13日（金） 16:40
開催場所：国際ファッションセンター　KFC Hall&Rooms　Room115

第１日目： 6 月 12 日（木）　13:00 - 17:00


13:00 ～ 13:30参加受付
13:30 ～ 13:35開会挨拶伊藤博人（コニカミノルタ(株））
《新体制紹介、方針説明》
13:35 ～ 13:45表面分析研究会　全体永富隆清（旭化成(株)）
13:45 ～ 13:55講演委員会伊藤博人（コニカミノルタ(株)）
13:55 ～ 14:05編集委員会吉川英樹（(独)物質材料研究機構）
14:05 ～ 14:15標準化委員会大友晋哉（古河電気工業(株)）
14:15 ～ 14:25WG活動・国際化永富隆清（旭化成(株)）
《チュートリアル》
14:25 ～ 15:00「固体表面からの二次電子生成について」永富隆清（旭化成(株)）
15:00 ～ 15:15- 休憩及びディスカッション (15分) -
《一般講演》
15:15 ～ 15:45「オージェ電子分光法と3次元アトムプローブ法との深さ分解能比較」柳内克昭（TDK(株)）
15:45 ～ 16:15「アトムプローブにおける側面からのレーザー照射が与える悪影響について」○森田真人, 安積崇浩, 秋葉翔太, 古島弥未, 湯川豪, 冨安文武乃進, 尾張真則（東京大学 生産技術研究所）
16:15 ～ 16:45「放射光軟Ｘ線分光法と第一原理計算を用いた有機半導体の化学状態分析」夏目　穣（旭化成(株)）
《WG紹介》
16:45 ～ 17:00
17:00 ～ 17:15
17:15 ～ 17:30
17:30 ～ 18:00- 移動(60分) -
懇親会
18:00 ～ 20:00懇親会

第２日目： 6 月 13 日（金）　9:30 - 16:40


9:00 ～ 9:30参加受付
《WG討議》
9:30 ～ 12:00XPS、Depth、TOF-SIMS」
12:00 ～ 13:30- 昼食(120分) -
《依頼講演 －さまざまな表面、薄膜分析手法－》
13:30 ～ 14:00「分光的反射電子像観察：低エネルギー損失電子の事例」熊谷 和博((独)産業技術総合研究所）
14:00 ～ 14:30「FT-IRの基礎と最新の分析手法」澤田　寛己(サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)）
14:30 ～ 15:00「微小角入射X線小角散乱を用いたナノ構造計測（仮）」伊藤 義泰（(株)リガク）
15:00 ～ 15:30「放射光を用いた材料解析 －XAFS法を中心に－」堂前和彦（(株)豊田中央研究所）
15:30 ～ 15:50- 休憩及びディスカッション (20分) -
《WG討議報告》
15:50 ～ 16:30
　
16:30 ～ 16:35連絡事項伊藤博人（コニカミノルタ(株））
16:35 ～ 16:40閉会挨拶永富隆清（旭化成(株)）
敬称略
以上

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。

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