第41回表面分析研究会プログラム 案 (2013.5.30)

開催日時:2013年 6月17日(月) 13:00 ~ 18日(火) 16:40(予定)
開催場所:名古屋国際会議場 1号館3F 会議室133+134

第1日目: 6 月 17 日(月) 13:00 - 17:00


12:30 ~ 13:00参加受付
13:00 ~ 13:10開会挨拶高橋和裕((株)島津製作所)
《一般講演》
13:10 ~ 13:40「XPSスペクトル解析による遷移金属酸化物La1-xSrxMnO3導電性評価」○菱田智子1), 大林和重1), 齋藤智彦2)
(1)日本特殊陶業(株) ,2) 東京理科大学)
13:40 ~ 14:10「高機能XPSによる電池材料の分析技術」○佐藤誓,馬場輝久
(株)日産アーク
14:10 ~ 14:40「ラベル化法における試料の物理変化と簡易な膜厚計測装置(仮)」○伊藤博人,岩丸俊一(コニカミノルタ(株))
14:40 ~ 15:00- 休憩(20分) -
15:00 ~ 15:30「PCAと球面SOM法によるTOF-SIMSスペクトル解析」○吉原一紘1), 徳高平蔵2)(1)オミクロンナノテクノロジージャパン,2)SOMジャパン)
15:30 ~ 16:00「Cu上にSnメッキした試料のAES深さ方向分析波形データの球面SOM法による波形分類と標準試料による同定」徳高平蔵((有)SOMジャパン )
《ワーキンググループ講演》
16:00 ~ 16:30「XPS-WG活動報告 斜入射スパッタリングで誘起されるTiO2膜の損傷の評価」○大村和世(東北大学), 高野みどり(パナソニック(株)AIS社), 速水弘子(日鉄住金テクノロジー(株))
XPS-WG
16:30 ~ 17:00「高感度高分解能深さ方向分析のためのイオンガン調整 -多層膜試料を用いた分解能向上の確認の進捗報告-」○山内康生(矢崎総業(株))
デプス WG
17:00 ~ 18:00- 移動(60分) -
懇親会
18:00 ~ 20:00懇親会


第2日目: 6 月 18 日(火) 9:30 - 16:40


9:00 ~ 9:30参加受付
《一般講演》
9:30 ~ 10:00「COMPROに追加するAES標準スペクトル; Cr, Ca, GaP, Mn, Ti」○後藤敬典((独)産業技術総合研究所 中部センター), 吉原一紘(オミクロンナノテクノロジージャパン),田沼繁夫((独)物質・材料研究機構), 山内恭彦((独)産業技術総合研究所 中部センター)
10:00 ~ 10:30「表面分析のシミュレーター用入力ファイル及び参照スペクトルの記述のためのXMLを用いた共通データフォーマットの提案」○吉川英樹1), 渡部大介2),吉原一紘3),田中博美4),田沼繁夫1)(1)物質・材料研究機構, 2)アルバックファイ, 3)オミクロンナノテクノロジージャパン, 4)米子高専)
10:30 ~ 11:00「イオンビームアライメントに関する国際規格(ISO16531)の紹介」○永富隆清(旭化成(株))
《ワーキンググループ講演》
11:00 ~ 11:30「第四級アンモニウムイオンを質量軸較正に用いたTOF-SIMSスペクトル解析」○小林大介(旭硝子(株)),
TOF-SIMS WG
11:30 ~ 13:30- 休憩(120分) -
《ワーキンググループ》
13:30 ~ 15:30個別ディスカッション
15:30 ~ 16:30ディスカッション報告
 
16:30 ~ 16:40連絡・挨拶柳内克昭(TDK(株))
敬称略
以上

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。


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