第40回表面分析研究会プログラム（2012.12.28）

開催日時：	2013年 2月21日（木） 13:00 ～ 22日（金） 16:00（予定）
開催場所：	大田区産業プラザPIO　特別会議室

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第１日目： 2 月 21 日（木）

13:00 ～ 13:20	参加受付
13:20 ～ 13:30	開会挨拶	高橋和裕（(株)島津製作所）
一般講演
13:30 ～ 14:00	【Powell賞受賞記念講演】 「FIB-TOF-SIMSによるリチウム電池正極粒子表面の劣化物質の評価」	○大西　美和1、松岡　修2、野木　英信2、坂本　哲夫1 （1:工学院大学、2:三井化学(株)）
14:00 ～ 14:30	「Laser-SNMSによる有機物分析」	石川丈晴（(株)トヤマ）
14:30 ～ 15:00	「連続ビームのArクラスターを一次イオン源として用いたペプチドの分析(仮)」	青柳里果（島根大学 生物資源科学部）
15:00 ～ 15:15	- 休憩 -
一般講演
15:15 ～ 15:45	「Ａｒクラスターを用いたポリマーの分析(仮)」	川島知子（パナソニック(株)）
15:45 ～ 16:15	「球面自己組織化マップ(SSOM)法による各種判別データでのデータ要素間の有意度の算出」	徳高平蔵（(有)ＳＯＭジャパン ）
16:15 ～ 16:45	「XPSにおける自動ピークIDに関するRRT報告 - VAMAS/TWA2/A9最終報告 -」	○鈴木 峰晴、福島 整、田沼 繁夫（パーク・システムズ・ジャパン(株)、(独)物質・材料研究機構）
懇親会
18:00 ～ 20:00	懇親会

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第２日目： 2 月 22 日（金）

9:00 ～ 9:30	参加受付
一般講演
9:30 ～ 10:00	「Calculations of Mean Escape Depths of Photoelectrons in Elemental Solids Excited by Linearly Polarized X-ray for High Energy Photoelectron Spectroscopy」	○S. Tanuma, H. Yoshikawa, and R. Ueda H. Shinotsuka （(独)物質・材料研究機構）
10:00 ～ 10:30	「金属とその酸化物のオージェ・２次電子放射特性；CuBe,Mg,Li」	後藤敬典（(独)産業技術総合研究所 中部センター）
10:30 ～ 11:00	「Ｘ線励起と電子線励起のCr Augerスペクトルの比較（その後）」	福島整（(独)物質・材料研究機構）
11:00 ～ 11:30	「硬Ⅹ線光電子分光による微量の触媒活性元素の化学状態分析」	吉川英樹（(独)物質・材料研究機構）
11:30 ～ 13:30	- 昼食 -
ワーキンググループ
13:30 ～ 15:50	ワーキンググループ討議及び報告
連絡・挨拶、閉会挨拶
15:50 ～ 16:00	連絡・挨拶	柳内克昭（TDK(株)）

敬称略

以上

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。

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