第35回表面分析研究会プログラム（2010.6.18現在）　

「低ダメージデプスプロファイル」
共催：（独）物質・材料研究機構
VAMAS-TWA2国内対応委員会
開催日時：2010年 6月21日（月） 13:00 ～ 22日（火） 15:00
開催場所：軽井沢プリンスホテル　西館　宴会場「浅間」

第１日目： 6 月 21 日（月）


13:00 ～ 13:30参加受付
13:30 ～ 13:40開会挨拶
新年度からの企画および今回の企画趣旨説明		吉川 英樹（(独)物質・材料研究機構）
テーマセッション1
13:40 ～ 14:10「高輝度放射光を用いた
　硬Ｘ線光電子分光の利用技術」		渡辺 義夫（SPring-8）
14:10 ～ 14:40「精密斜め切削法を用いた深さ方向分析」（仮題）鈴木 良徳（(株)日東分析センター）
14:40 ～ 15:10「Arガスクラスターを用いた
　低損傷有機物スパッタリング」		宮山 卓也, 眞田 則明,
高原 淳, ○鈴木 峰晴
（アルバック・ファイ(株)、
　九州大学 先導物質化学研究所）
15:10 ～ 15:30休憩
一般講演
15:30 ～ 15:55「AESによる非破壊計測 －Si/BN多層膜－」○後藤 敬典
(共著者：竹中 貴久, 田沼 繁夫,
　黒河 明, 山内 幸彦）
（(独)産業技術総合研究所）
15:55 ～ 16:20「Si/BNデルタドープSIMS標準試料の
　オージェ深さ方向分析」		○荻原俊弥，永富隆清，田沼繁夫
（(独)物質・材料研究機構，大阪大学）
16:20 ～ 16:30休憩
プロジェクト・WG／ナイトセッション
16:30 ～ 16:55プロジェクト・WG紹介
18:00 ～ 20:00懇親会　※討議の場として積極的に御活用下さい。
20:15 ～ プロジェクト・WG討議

第２日目： 6 月 22 日（火）


一般講演・話題提供
09:00 ～ 09:25「XPSを活用した酸化物ガラスレンズ製造時に生じる
　「ヤケ」の原因解明」		松本 太輝（宇都宮大学）
09:25 ～ 09:50「TOF-SIMSイメージにおける
　各種多変量解析の比較検討」		河野 禎市郎（旭化成(株)）
09:50 ～ 10:15「球面クラスタSOMによるTOF-SIMSデータの解析」○徳高 平蔵, 河野 禎市郎
（SOMジャパン, 旭化成(株)）
10:15 ～ 10:35休憩
10:35 ～ 11:00VAMAS-TWA2 国内対応委員会共催
「標準物質と表面分析の標準化（１）」		田沼 繁夫（(独)物質・材料研究機構）
11:00 ～ 11:25「低加速電子ビーム鏡筒の使いどころ」小粥 啓子（(株)アプコ）
11:25 ～ 13:00昼食（95分）　※研究会では準備致しませんので、各自でお取り下さい
テーマセッション2
13:05 ～ 13:30「C60イオンスパッタのフッ素樹脂および
ガラス分析への適用」		山本 雄一（旭硝子(株)）
プロジェクト・WG
13:30 ～ 14:45プロジェクト・WG経過報告
フリートーク
14:45 ～ 14:50フリートーク（議論・宿題の確認）
事務連絡
14:50 ～ 14:55連絡事項吉川 英樹（(独)物質・材料研究機構）
14:55 ～ 15:00閉会挨拶柳内 克昭（TDK(株)）

以上

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。

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