第34回表面分析研究会プログラム　PDF 版

「オージェ電子分光の実力と将来像」
開催日時：2010年 3月 4日（木） 13:40 ～ 5日（金） 16:00
開催場所：キャンパスプラザ京都

第１日目： 3 月 4 日（木） テーマセッション


13:00 ～ 13:30参加登録受付
13:30 ～ 13:40開会挨拶
テーマセッション基調講演
13:40 ～ 14:30オージェ電子分光の果たしてきた役割と今後の展望吉原 一紘（ｵﾐｸﾛﾝﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰｼﾞｬﾊﾟﾝ(株)）
テーマセッション通常講演
14:30 ～ 15:00オージェ電子分光法による化学状態分析堤 建一（日本電子(株)）
15:00 ～ 15:30CMAオージェの特徴と有用性眞田 則明, 鈴木 峰晴（ｱﾙﾊﾞｯｸ･ﾌｧｲ(株)）
15:30 ～ 15:50休憩（20分）
15:50 ～ 16:20【PSA-09 Powell賞受賞記念講演】
半球型電子分光器を搭載したオージェ電子分光
装置のジオメトリー特性と傾斜ホルダーを利用した
超高深さ分解能オージェ深さ方向分析		荻原 俊弥（(独)物質・材料研究機構）
16:20 ～ 16:45オージェ電子分光法での帯電対策甕 久美（(株)日立製作所 中央研究所）
16:45 ～ 17:10高真空下のオージェ測定小西 郁夫（(株)島津製作所）
フリートークセッション（皆さんの自由な討議の場として御利用いただく時間です）
17:10 ～ 17:30フリーフリー
懇親会
18:30 ～ 20:30懇親会

第２日目： 3 月 5 日（金）


9:15 ～ 9:30参加登録受付
プロジェクト／WG 報告
9:30 ～ 10:00電子線損傷プロジェクト報告木村 隆（(独)物質・材料研究機構）
10:00 ～ 10:20ToF-SIMS WG 報告阿部 芳巳（三菱化学(株)）
10:20 ～ 10:40XPS WG 報告當麻 肇（(株)日産アーク）
10:40 ～ 11:00休憩（20分）
11:00 ～ 11:20Background プロジェクト報告田沼 繁夫（(独)物質・材料研究機構）
11:20 ～ 11:40ノイズ評価プロジェクト報告福島 整（(独)物質・材料研究機構）
11:40 ～ 13:20昼食・休憩（100分）
話題提供
13:20 ～ 13:45究極のクラスタ分類器の紹介
　　-AESスペクトルデータ等への応用-		徳高 平蔵（(有)SOMジャパン）
13:45 ～ 14:10反射電子エネルギー損失スペクトルにおける
因子分析の基礎的扱い		吉川 英樹（(独)物質・材料研究機構）
14:10 ～ 14:35多変量解析のTOF-SIMSイメージへの応用河野 禎市郎（旭化成(株)）
14:35 ～ 14:55休憩（20分）
14:55 ～ 15:20オージェ電子分光装置を用いたハードディスク
読み書き用ヘッド表面のDLC膜厚測定法		松村 純宏
（(株)日立ｸﾞﾛｰﾊﾞﾙｽﾄﾚｰｼﾞﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ）
15:20 ～ 15:45XPSによける酸化銀のケミカルシフト薗林 豊（京都大学）
連絡・挨拶
15:45 ～ 16:00連絡、閉会挨拶

変更がありましたら、そのつどご案内いたします。

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