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6月18日(月) |
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12:30〜13:00 |
参加受付 |
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13:00〜13:05 |
開会挨拶 |
柳内克昭(TDK) |
13:05〜14:45 |
テーマ講演「表面分析関連技術の新たな展開」第1部 (2件:講演40分+質疑10分) |
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「二次の非線形光学像で観察する固体表面と植物」 |
水谷五郎(北陸先端科学技術大学院大学) |
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「超高真空SEMから低真空SEMまで 」 |
関口隆史(物質・材料研究機構) |
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−休憩(15分)− |
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15:00〜16:30 |
テーマ講演「表面分析関連技術の新たな展開」第2部 (3件:講演25分+質疑5分) |
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「大気中光電子分光装置の概要」 |
中島 嘉之(理研計器) |
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「AESによる酸化鉄の状態分析」 |
堤 建一(日本電子) |
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「最近のToF-SIMS」 |
奥平 秀和 (日立ハイテクトレーティング) |
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−休憩(10分)− |
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16:40〜17:40 |
テーマ講演「表面分析関連技術の新たな展開」第3部 (2件:講演25分+質疑5分) |
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「真空紫外光による表面洗浄」 |
佐々木 亘 (NTP) |
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「クロスセクションポリッシャー(CP)の表面分析前処理への応用」 |
中村佳澄 (昭和電工) |
18:30〜20:30 |
懇親会(夕食) |
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20:30〜22:00 |
プロジェクト討議 |
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6月19日(火) |
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09:00〜09:50 |
平成19年度 VAMAS-TWA2の活動について |
VAMAS-TWA2国内対応委員会 |
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−休憩(10分)− |
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10:00〜11:30 |
プロジェクト報告および全体討議(90分)(2件:講演20分) |
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「シリコン酸化物の電子線損傷現象の試料間の差異」 |
森 行正(日本ガイシ) |
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「XPS測定時の損傷評価と標準物質に関するラウンドロビンテスト」 |
鈴木 昇(宇都宮大学) |
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各プロジェクトからの報告 |
各プロジェクトリーダー |
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−昼食(90分)−※研究会では準備致しませんので、各自でお取り下さい |
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13:00〜14:00 |
基礎講座(講演50分+質疑10分) |
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「オージェ分析の歴史-3」 |
田中 彰博(アルバック・ファイ) |
14:00〜15:00 |
話題提供(2件:講演20分+質疑10分) |
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「固体元素中における50 - 30,000eVのエネルギー範囲における電子阻止能のエネルギー依存性」 |
熊谷和博(筑波大学) |
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「何を補正の手かがりにするか −金属Si Si 2pスペクトルのシフト−」 |
福島 整(物材機構) |
15:00〜15:10 |
連絡事項 |
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15:10〜15:15 |
閉会挨拶 |
田沼繁夫 (会長:物質・材料研究機構) |