巻頭言
公私融合田沼繁夫・・・・148
解説
分析電子顕微鏡による微小分析渡辺万三志・・・・149
高温下のZr-O/W(100)における自己調整機能
志水隆一・・・・154
工業材料評価におけるXPS局所分析
林 栄治・・・・165
AESを用いた鋼中析出物分析における空間分解能及び軽元素の検討
槙石規子、 山本 公、 吉岡啓一・・・・175
インターネット利用の化学スペクトル解析システム
藤村喜九郎、 徳高平蔵・・・・182
研究論文
走査型オージェ電子顕微鏡による仕事関数の測定とその応用工藤政都、 境 悠治、 市ノ川竹男・・・・188
AESによるセラミックス表面の正確な定量補正方法の検討
下間靖彦、 一村信吾・・・・196
Gd表面での初期酸化状態の研究を基にしたUHV装置内の残留ガスの評価
阿部芳巳・・・・203
X線光電子分光における複合材料の試料固定方法の検討
森行正・・・・211
３年目の多結晶シリコン表面自然酸化層膜厚測定
柳内克昭・・・・218
技術報告
FIBによるAES分析用試料作製茂木カデナ、 飯塚俊生、 鈴木峰晴・・・・228
Imaging of Defects in IIa Diamond by Cathodoluminescence Field Emission Scanning Electron Microscope
S. Awata, H. Matsuo, Y. Kimura, Y. Takai and R. Shimizu・・・・234
データ報告
スペクトルデータベース提出データ児島淳子、 データベース委員会・・・・238
話題
EELSによるSi酸化膜の評価 （２）界面プラズモンの定量的評価笹川薫、 岡野智規、 坪川純之、 薦田弘敬、 和多田篤行、 石田一孝・・・・258
AlGaAs/GaAs多層膜断面でのToF-SIMSイメージング
阿部芳巳、 奥平秀和・・・・262
弾性散乱背面電子によるAESエネルギー校正法： 10 〜 1200 eV/15 meV （改良したCMAを用いて）
後藤敬典・・・・263
談話室
ネットワーク討論編集委員会・・・・266
国際会議報告 〜IMFP 2000〜
後藤敬典・・・・268
掲示板
PSA-01/ First Announcement・・・・・・・・・・・・270
第３６回X線分析討論会
・・・・・・・・・・・・272
表面分析研究会会則
・・・・・・・・・・・・273
研究会会員申し込み・登録原簿
・・・・・・・・・・・・274
講演委員会運営規則
・・・・・・・・・・・・275
データベース委員会運営規則
・・・・・・・・・・・・276
データスペクトル投稿規定
・・・・・・・・・・・・278
スペクトルデータ投稿票
・・・・・・・・・・・・280
Journal of Surface Analysis 投稿規定
・・・・・・・・・・・・281
Journal of Surface Analysis 投稿票
・・・・・・・・・・・・283
Copyright transfer agreement
・・・・・・・・・・・・285
６巻総目次
・・・・・・・・・・・・290
６巻著者索引
・・・・・・・・・・・・296