巻頭言
分析の標準化が「便利な暮らし」を後押ししていると信じて高野 明雄・・・・81
解説
Tutorial: Current Status of Standardization for Practical Surface Analysis Methods and Activities of KRISSKyung Joong Kim・・・・82
Applications of Ar Gas Cluster Ion Beam to Oxide Thin Films
Chanae Park, Hongchol Chae, Nam Seok Park and Hee Jae Kang・・・・96
速報
ArガスクラスターイオンビームによるBaTiO3単結晶の表面清浄化とXPS測定關 雅志，田中 博美，片岡 範行，岸田 悟・・・・103
技術報告
スパッタ深さ方向分析におけるサンプルステージの傾斜角と回転角の誤差がイオン入射角に与える影響松村 純宏・・・・110
談話室
日韓交流 The 10th Korean Symposium on Surface Analysis（KoSSA-10）参加報告大友 晋哉・・・・118
日韓交流 The 11th Korean Symposium on Surface Analysis（KoSSA-11）参加報告
伊藤 博人・・・・120
掲示板
第45回研究会 XPS WG議事録XPSワーキンググループ・・・・122
第45回研究会 Depth Profiling WG議事録
Depth Profilingワーキンググループ・・・・128
第45回研究会におけるToF-SIMS WG活動
小林 大介，飯田 真一，ToF-SIMSワーキンググループ・・・・130
表面分析技術士認定規定
・・・・・・・・・・132
表面分析技術士申請書
・・・・・・・・・・134
投稿規程
・・・・・・・・・・・・137
投稿票
・・・・・・・・・・・・140
Copyright Transfer Agreement
・・・・・・・・・・・・143
JSA定期購読申込用紙
・・・・・・・・・・・・146
JSAバックナンバー申込用紙
・・・・・・・・・・・・148
会告
・・・・・・・・・・・・150
編集後記
・・・・・・・・・・・・153
第45回表面分析研究会 講演資料
HR-SPM（高分解能SPM）による最新の顕微評価技術粉川 良平・・・・A-33
AFM-IR：数十 nm領域の赤外分光技術開発と応用
粟谷 正・・・・A-42
1 nm高分解能走査型拡がり抵抗顕微鏡（SSRM）を用いたSiデバイスにおける２次元キャリア分布計測
張 利・・・・A-45
表面分析の毛髪改質研究への応用
石川 和高・・・・A-50
電気計測SPMを用いた半導体微小領域のキャリア濃度測定における校正法と標準化
藤田 高弥・・・・A-54
固体表面からの二次電子生成について
永富 隆清・・・・A-58
感度が低くしかも幅が広いピークのエネルギー値と精度
大塚 幸，田中 彰博・・・・A-67
XPS測定時におけるハロゲン−炭素結合の分解特性
大和 弘之，仁平 淳史，井上 哲哉，時庭 成美，倉山 文男，古澤 毅，佐藤 正秀，鈴木 昇・・・・A-70