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巻頭言
ToF-SIMS による界面活性阿部 芳巳・・・・1
論文
Theoretical mass spectra of PE, PP, PS, and PET polymers by QMD methods using the model moleculesK. Endo, K. Hayashi, T. Ida, D. Matsumoto and N. Kato・・・・2
Fragment distribution of polystyrene by QMD method using the model hexamer
K.Hayashi, K. Moritani, K. Mochiji, N. Inui and K. Endo・・・・15
連載(講義)
数値データの取り扱い ~四捨五入から検出限界まで~第一回 データの丸め方と誤差の基礎
福島 整・・・・28
談話室
日中韓参加報告吉川 英樹・・・・37
表面分析研究会 2009 年事業報告(抜粋)
・・・・・・・・・・・・40
一般社団法人表面分析研究会細則
・・・・・・・・・・・・43
2010 年度一般社団法人表面分析研究会組織表
・・・・・・・・・・・・45
講演委員会運営規則
・・・・・・・・・・・・46
編集委員会運営規則
・・・・・・・・・・・・47
投稿規程
・・・・・・・・・・・・48
投稿票
・・・・・・・・・・・・53
Copyright Transfer Agreement
・・・・・・・・・・・・55
JSA定期購読申込用紙
・・・・・・・・・・・・58
JSAバックナンバー申込用紙
・・・・・・・・・・・・60
編集後記
・・・・・・・・・・・・62
第34回表面分析研究会講演資料
オージェ電子分光の果たしてきた役割と今後の展望吉原 一紘・・・・A-1
オージェ電子分光法による化学状態分析
堤 建一・・・・A-2
CMA オージェの特徴と有用性
眞田 則明,鈴木 峰晴・・・・A-11
半球型電子分光器を搭載したオージェ電子分光装置のジオメトリー特性と 傾斜ホルダーを利用した超高深さ分解能オージェ深さ方向分析
荻原 俊弥・・・・A-15
オージェ電子分光法での帯電対策
甕 久美・・・・A-27
高真空下のオージェ測定
小西 郁夫・・・・A-28
電子線損傷プロジェクト
木村 隆・・・・A-38
ToF-SIMS ワーキンググループ
阿部 芳巳・・・・A-43
XPS ワーキンググループ
當麻 肇・・・・A-46
Background プロジェクト
田沼 繁夫・・・・A-49
ノイズ評価プロジェクト
福島 整・・・・A-50
究極のクラスタ分類器の紹介-AES スペクトルデータ等への応用-
徳高 平蔵・・・・A-54
反射電子エネルギー損失スペクトルにおける因子分析の基礎的扱い
吉川 英樹・・・・A-56
多変量解析のTOF-SIMS イメージへの応用
河野 禎市郎・・・・A-59
オージェ電子分光装置を用いたハードディスク読み書き用ヘッド表面の DLC 膜厚測定法
松村 純宏・・・・A-60
XPS における酸化銀のケミカルシフト
薗林 豊・・・・A-66