巻頭言
標準化:来るべきもの田沼繁夫・・・・52
論文
Structural Analysis of (AXA')+ Ion in Gas Phase by ab initio MO CalculationsW. Motozaki, K. Endo, N. Martinez and K. Isa・・・・53
Development of Fine-Pitch Four-Point Probe for High Spatial Resolution Sheet Resistance Measurement
Y. Sato, T. Ogiwara, M. Suzuki, T. Kikuchi and S. Kiyota・・・・58
Chemical Structure Changes in TOPO Capped CbSe Nanocrystals Thin Films by Comparable ToF-SIMS and XPS Study
Y. Abe, H. Asami, H. Yamauchi, T. Ohtsu, I. Kamiya, H. Okuhira and K. Edamoto・・・・62
AES分析装置を用いた二次電子放出係数測定
荒木祥和・・・・71
解説
バックグラウンド解析法による表面電子励起効果の推定永富隆清・・・・77
連載(講義)
電子光学入門 −電子分光装置の理解のために− 第2回嘉藤 誠・・・・91
SIにつながる真の電子スペクトルを求める実験法(U)
後藤敬典・・・・117
表面電子分光法における信号の減衰は如何に記述されるか? U. 誘電関数とIMFP
田沼繁夫・・・・123
表面化学分析に関わる用語解説(TASSAのたまご)第3回
標準化活動部会・・・・129
PSA-03 開催記
柳内克昭, 木村 隆・・・・160
PSA-04 開催案内
橋本 哲・・・・162
編集後記
・・・・・・・・・・・・163